【真空鍍膜機電控柜的操作】1、玻璃真空鍍膜機開水泵、氣源2、開總電源3、開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。4、開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。5、觀察渦輪分子泵讀數到達250以后，關予抽，開前機和高閥繼續抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子qiang電源。真空鍍膜機廠家排名。山西光學薄膜射頻離子源廠家

【真空鍍膜機清洗工藝之紫外線輻照清洗】利用紫外輻照來分解表面上的碳氫化合物。例如，在空氣中照射15h就可產生清潔的玻璃表面。如果把適當預清洗的表面放在一個產生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產生高活性的原子態氧。受激的污物分子和由污物離解產生的自由基與原子態氧作用．形成較簡單易揮發分子．如H203、CO2和N2．其反應速率隨溫度的增加而增加。山西光學鍍膜射頻離子源價格成都國泰真空鍍膜機怎么樣？

【真空鍍膜機檢漏之氣壓檢漏】氣壓檢漏被檢零部件內腔充以氣體(一般為空氣)，充氣壓力的高低視零部件的強度而定，一般為(2~4)×105帕。充壓后的零部件如發出明顯的嘶嘶聲，音響源處就是漏孔位置。用這種方法可檢較小漏率為5帕·升/秒的漏孔。如不能用聲音直接察覺漏孔，則用皂液涂于零部件可疑表面處，有氣泡出現處便是漏孔位置。用這種方法較小可檢漏率為5×10-3帕·升/秒的漏孔。此外，還可將充氣的零部件浸在清凈的水槽中，氣泡形成處便是漏孔位置。用水槽顯示漏孔，方便可靠，并能同時全部顯示出漏孔位置。如氣泡小、成泡速度均勻、氣泡持續時間長，則為×10-2~13帕·升/秒漏率的漏孔。如氣泡da、成泡持續時間短，則為13~103帕·升/秒漏率的漏孔。

【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場，在此區電子密度高，進而提高離子密度，使得濺鍍率提高(一個數量級)，濺射速度可達0.1—1um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前實用的鍍膜技術之一。其它有偏壓濺射、反應濺射、離子束濺射等鍍膜技術濺鍍機設備與工藝濺鍍機由真空室，排氣系統，濺射源和控制系統組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputtergun）。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30-40%，圓柱型靶材料利用率>50%濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse），直流：800-1000V（Max）導體用，須可災弧。射頻：13.56MHZ，非導體用。脈沖：泛用，新發展出真空鍍膜機的工作原理和構成。

本申請中涉及的一種射頻離子源離子束束徑控制裝置具體包括一真空腔體5、控制器6以及設于真空腔體5中的離子束發生器7、束徑約束器0和驅動器8，該束徑約束器0即采用葉片2進行光闌3大小調整的束徑約束器0，該束徑約束器0設置在離子束發生器7前端，驅動器8與束徑約束器0的驅動機構相連以控制驅動機構動作，控制器6分別與束徑約束器0及驅動器8相連。本實施例中，真空腔體5的真空度×10-3pa以上，驅動器8為微型電機，離子束發生器7包括離子束發生器外壁71以及位于離子束發生器外壁71內并位于離子束前端的平面柵網72，控制器6為計算機，在計算機中編寫matlab控制代碼，通過代碼程序執行，微型電機啟動，并控制驅動機構動作，也即對伺服電機45進行控制，伺服電機45使用絕對式編碼器進行定位，伺服電機45驅動齒輪44轉動并通過齒圈43帶動滑環41旋轉，滑環41旋轉時，通過導槽42帶動葉片2繞固定軸23轉動，從而使葉片2的尾端22相交組成的光闌3的孔徑大小發生變化，也即實現離子束束徑的調節，**后將光闌3的孔徑大小信息反饋給計算機。束徑約束器0采用附圖中的設置方向時，滑環41順時針旋轉時，光闌3孔徑減小，滑環41逆時針旋轉時，光闌3孔徑變大。成都真空鍍膜機的生產廠家。北京離子束刻蝕射頻離子源

射頻離子源采用高頻電場來加速和離子化氣體分子，產生高能離子束。山西光學薄膜射頻離子源廠家

【真空鍍膜技術專業詞匯】真空鍍膜vacuumcoating：在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。基片substrate：膜層承受體。試驗基片testingsubstrate：在鍍膜開始、鍍膜過程中或鍍膜結束后用作測量和（或）試驗的基片。鍍膜材料coatingmaterial：用來制取膜層的原材料。蒸發材料evaporationmaterial：在真空蒸發中用來蒸發的鍍膜材料。濺射材料sputteringmaterial：有真空濺射中用來濺射的鍍膜材料。膜層材料(膜層材質)filmmaterial：組成膜層的材料。蒸發速率evaporationrate：在給定時間間隔內,蒸發出來的材料量,除以該時間間隔濺射速率sputteringrate：在給定時間間隔內,濺射出來的材料量,除以該時間間隔。沉積速率depositionrate：在給定時間間隔內,沉積在基片上的材料量,除以該時間間隔和基片表面積。鍍膜角度coatingangle：入射到基片上的粒子方向與被鍍表面法線之間的夾角。山西光學薄膜射頻離子源廠家

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